フラットパネルディスプレイ用スパッタリングターゲット

ITOスパッタリングターゲット

特長

原料からの一貫生産の強みを生かし、電気分解法による酸化インジウム、酸化スズを用いた、高密度/低パーティクル品を「UHD(Ultra High Density)-IVグレード」として生産・販売しています。標準的な酸化スズ濃度10wt%品に加えて、低温での低抵抗膜の形成が可能なためフィルムへの成膜に最適な、酸化スズ濃度の低い製品もご提供可能です。ロータリー形状ターゲットにおいても、大型シリンダーを用いた少分割品を使用することで、パーティクル抑制が可能です。

G8.5 ロータリーITOターゲット
G8.5 ITOターゲット

用途

透明導電膜

技術内容・特性

純度 4N
形状 ロータリータイプ、プレーナータイプを問わず、全スパッタ装置・全サイズで、対応可能。
組成 標準的な酸化スズ濃度10wt%品を中心に、各種組成で対応可能
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