フラットパネルディスプレイ用スパッタリングターゲット
IZOスパッタリングターゲット
特長
IZO（Indium-Zinc-Oxide）は、有機ELパネルをはじめとした次世代ディスプレイパネルの電極材料に最適な、当社独自の透明導電膜用材料です。以下のような特長があります。
- 常温成膜で低抵抗・高透過率
- 樹脂基板や有機層上へのご採用が容易です。
- 低パーティクル・ノジュールレス
- メンテナンス軽減や歩留向上に寄与します。
- アモルファス安定で優れた表面平滑性
- 上下膜との積層が容易です。
- 優れたエッチング特性
- 電流リークの防止やタクトタイム短縮に寄与します。
ITO/IZO 基礎特性比較
| ターゲット | 膜抵抗[mΩ・cm] | 透過率@550nm [％] | アーキング | アモルファス安定性 | 膜表面粗さ | エッチングレート | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Ra[nm] | Rz[nm] | ||||||
| ITO | 1.07 | 77.9 | 普通 | 普通 | 2.24 | 34.2 | 普通 |
| IZO | 0.41 | 83.1 | 少ない | 良い | 0.52 | 5.2 | 早い |
- ※いずれもas-depo.膜、抵抗率・透過率は膜厚55nm、表面粗さは膜厚130nmのデータ。
用途
透明導電膜
技術内容・特性
| 純度 | 3N |
|---|---|
| 形状 | ロータリータイプ、プレーナータイプを問わず、全スパッタ装置・全サイズで、対応可能。 |
| 組成 | 標準的 酸化亜鉛濃度10.7wt％ |
ITO/IZO ノジュール・アーキング比較
ノジュールレスでアーキングが極めて少なく、パーティクルを抑制できます。
ITO/IZO 導電特性・光学特性 比較
室温成膜時・低温アニール時にITOを上回る特性を発現します。
XRDパターン IZO 膜/ITO膜
良質なアモルファス安定膜を形成できます。
IZO膜 TEMイメージ
良質なアモルファス安定膜を形成できます。
良質なアモルファス安定膜を形成できます。
ITO/IZO 折り曲げ特性比較
優れた耐折り曲げ特性を有しています。
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