光学膜用溅射靶材
NS-5系列（高折射靶材）
特点
本公司独创的高折射率靶材具有以下特点。
- 通过DC溅射可高速形成高折射率/高透射膜。
作为TiO2的替代材料，可提高生产效率、改善光学特性。 - 非晶态稳定且阻挡性能优异。也适合用作各类保护膜。
NS-5：超越TiO2的高折射率膜 NS-5B：为TiO2三倍的高速成膜
NS-5系列基本特性
| 靶材 | Ar＋2％O2 | 溅射率（Å/sec） | 膜电阻率（Ω・cm） | 结晶温度 | |
|---|---|---|---|---|---|
| n@550nm | k@405nm | ||||
| NS-5 | 2.46 | 0.004 | 0.9 | >106 | ≧400℃ |
| NS-5B | 2.37 | 0.000 | 1.5 | >106 | >600℃ |
| TiO2（参考） | 2.37 | 0.001 | 0.5 | >106 | 300℃ |
NS-5系列光学透过率
在可见光区域具有与TiO2同等的透射比。
NS-5系列水蒸气透过率（膜康法）
具有超越SiO2的阻挡性。
- ※以SiO2（30nm）为1时的相对值
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