光学膜用溅射靶材
NS-5系列（高折射靶材）
特点
本公司独创的高折射率靶材具有以下特点。
- 通过DC溅射可高速形成高折射率/高透射膜。
作為 TiO2的替代材料，它可以提高生產效率。 - 非晶态稳定且阻挡性能优异。也适合用作各类保护膜。
NS-5：折射率薄膜相當於TiO2 NS-5B：为TiO2三倍的高速成膜
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※24小时受理。
本公司独创的高折射率靶材具有以下特点。
NS-5：折射率薄膜相當於TiO2 NS-5B：为TiO2三倍的高速成膜
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