光学膜用溅射靶材

NS-LR系列(低折射率靶材)

特点

本公司独创的低折射率靶材具有以下特点。

  • 通过DC溅射可以高速形成低折射率/高透射膜。
  • 无需导入氧气即可形成高透射膜。
  • 非晶态稳定且阻挡性能优异。也适合用作各类保护膜。

NS-LR系列基本特性

靶材名称 DC溅射 环境气氛 溅射率 n k
Å/sec 550nm 405nm 550nm
NS-LR-C3J OK Ar 1.94 1.74 0.001 0.000
2%O2 1.66 1.70 0.000 0.000
NS-LR-C3J-2〔研发产品〕 OK Ar 1.72 1.65 0.000 0.000
2%O2 〔正在获取〕
MgO(参考) NG Ar 0.15 1.74 - -

水蒸气透过率〔膜康法〕

具有超越SiO2的阻挡性。

光学透过率

能够获得可达紫外线区域的高透射率膜。

耐热性〔NS-LR-C3J〕

退火温度(℃) n k 表面电阻 膜质(XRD)
550nm 405nm (Ω/sq)
R.T 1.74 0.000 >5000k Amorphous
240 1.73 0.000 >5000k Amorphous
400 1.73 0.000 >5000k Amorphous

即使在高温下,特性也不会发生变化。

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