ニュースリリース

　ＪＸ金属株式会社（社長：林　陽一、以下「当社」）は、次世代半導体向けCVD・ALD材料の需要立ち上がりに対応すべく、当社茨城事業所(日立地区)において生産設備導入を進めておりましたが、このたび量産ラインの立上げが完了し、顧客への出荷を開始しておりますのでお知らせいたします。

　

　生成AIの進化やデータセンターの増設を背景に、ロジック半導体や3D-NAND、HBMなどの需要が拡大しています。これらの半導体製品では配線の微細化・多層化が進み、微細構造への成膜を可能とするCVD・ALD材料へのニーズが高まっています。このニーズの高まりに対し、先般、当社による完全子会社化を決議(※1)した東邦チタニウム茅ヶ崎工場内において、3D-NAND向けCVD・ALD材料であるモリブデン化合物の製造を行っておりましたが(※2)、加えて、当社茨城事業所(日立地区)で立ち上げた量産ラインでも、同製品の製造を開始しました。今後は同事業所で同製品以外のCVD・ALD材料の開発・製造も視野に入れております。

　

　「2040年ＪＸ金属グループ長期ビジョン」で掲げる「技術立脚型企業」への転身に向けた施策を推進し、先端素材で社会の発展と革新に貢献するグローバル企業を目指してまいります。

　

以　上

　

【参考】
(※1) 2026年2月25日付プレスリリース「ＪＸ金属株式会社による東邦チタニウム株式会社の完全子会社化について」
(※2) 2025年6月23日付プレスリリース「次世代半導体の高性能化に不可欠な高純度CVD・ALD材料の供給体制を強化」
 

　

モリブデン化合物