MoSi₂ヒーター

MoSi₂ヒーター(二珪化モリブデンヒーター)は大気中（酸素雰囲気中）で1800℃程度までの使用が可能な発熱体であり、同様に大気中で使用されるカンタル線やニクロム線、SiCヒーター(炭化ケイ素ヒーター)と比較して、より高温の発生が可能です。また、炉の設計次第で、1800℃以上の超高温での使用が可能となる場合もあります。主な使用用途は、各種セラミックスの焼成 (Al₂O₃やZrO₂、MgOなど)、ガラスの溶解や熱処理、パワー半導体ウェハーのアニール、各種金属の焼結・焼き入れなど多岐に渡ります。
当社が開発した高純度MoSi₂ヒーターのグレードを下記に記載します。長寿命化（耐変形特性、母材強度など）と併せて、ワークの汚染防止（変色）や高温発生、ペストなどといった課題を解決するMoSi₂ヒーターをご提供します。

表面の酸化被膜を高純度化することで、MoSi₂ヒーターの長寿命化に成功しました。高純度な酸化被膜は酸素の拡散を抑制する効果があり、この効果により、高温酸化雰囲気において長寿命となります。

変色抑制グレードでは、長時間加熱後も安定した酸化被膜が形成されていることを確認。

より高い温度で熱処理ができるMoSi₂ヒーターを開発しました。
大気中でも炉内の温度を1800℃以上まで昇温することが可能となり、より幅広い温度範囲で使用することができます。

1900℃グレード表面は強固な酸化被膜が形成され、高温域で高い耐久性を有します。
標準グレードは酸化被膜に劣化が見られます。

低温度域において、MoSi₂ヒーターにみられるペスト現象を抑制したペスト対策グレードを開発しました。従来は困難であった低温域での長時間使用が可能となります。
また、端子部のみへの適用(別グレードとの組み合わせ)も可能です。

MoSi₂は1000℃以上の高温では、Siが選択的に酸化され(式Ⅰ)、耐酸化性に優れたSiO₂膜を生成しますが、600℃以下では、MoとSiの同時酸化が起こり(式Ⅱ)、ペストが生じます。
さらに、欠陥部でMoO₃が形成されると、形成時の体積膨張と、その高い蒸気圧がペストの生成を促進します。

5MoSi₂ + 7O₂ → Mo₅Si₃ + 7SiO₂…（Ⅰ）
2MoSi₂ + 7O₂ → 2MoO₃ + 4SiO₂…（Ⅱ）

高温熱処理過程において、ヒーター表面からのアルカリ金属や重金属類の飛散がないMoSi₂ヒーターを開発しました。
半導体ウェハをはじめとした製品にクリーンな熱処理環境を提供します。

スーパークリーングレードは他社品に比べて不純物が少ないことを確認しております。

• ※データは代表値です

不純物のトラップ量が低いことを確認しております。

• ※蒸着したAuを意図的に引っ掻いて集積させたものです。下地が平滑で不純物が付着していないことが分かります。