光学膜用スパッタリングターゲット
NS-5シリーズ
（高屈折ターゲット）
特長
当社オリジナルの高屈折率ターゲットで、以下の特長があります。
- 高屈折率/高透過膜をDCスパッタで高速成膜可能です。
TiO2の代替材料として、生産性の向上や光学特性の改善が可能です。 - アモルファス安定でバリア性能に優れております。各種保護膜としてのご採用にも適しています。
NS-5：TiO2以上の高屈折率膜 NS-5B：TiO2比3倍の高速成膜
NS-5シリーズ基礎特性
| ターゲット | Ar＋2％O2 | スパッタレート（Å/sec） | 膜抵抗率（Ω・cm） | 結晶化温度 | |
|---|---|---|---|---|---|
| n@550nm | k@405nm | ||||
| NS-5 | 2.46 | 0.004 | 0.9 | >106 | ≧400℃ |
| NS-5B | 2.37 | 0.000 | 1.5 | >106 | >600℃ |
| TiO2（参考） | 2.37 | 0.001 | 0.5 | >106 | 300℃ |
NS-5シリーズ光学透過率
可視光領域でTiO2同等の透過率を有します。
NS-5シリーズ水蒸気透過率（モコン法）
SiO2を上回るバリア性を有します。
- ※SiO2（30nm）を1としたときの相対値
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