光学膜用スパッタリングターゲット
NS-LRシリーズ
(低屈折率ターゲット)
特長
当社オリジナルの低屈折率ターゲットで、以下の特長があります。
- 低屈折率/高透過膜をDCスパッタで高速成膜可能です。
- 酸素導入無しで高透過膜を形成できます。
- アモルファス安定でバリア性能に優れております。各種保護膜としてのご採用にも適しています。
NS-LRシリーズ基礎特性
ターゲット名 | DCスパッタ | 雰囲気 | スパッタレート | n | k | |
---|---|---|---|---|---|---|
Å/sec | 550nm | 405nm | 550nm | |||
NS-LR-C3J | OK | Ar | 1.94 | 1.74 | 0.001 | 0.000 |
2%O2 | 1.66 | 1.70 | 0.000 | 0.000 | ||
NS-LR-C3J-2〔開発品〕 | OK | Ar | 1.72 | 1.65 | 0.000 | 0.000 |
2%O2 | 〔取得中〕 | |||||
MgO(参考) | NG | Ar | 0.15 | 1.74 | - | - |
水蒸気透過率〔モコン法〕
SiO2を上回るバリア性有しています。
光学透過率
紫外域まで高透過率な膜を得られます。
耐熱性〔NS-LR-C3J〕
アニール温度(℃) | n | k | シート抵抗 | 膜質(XRD) |
---|---|---|---|---|
550nm | 405nm | (Ω/sq) | ||
R.T | 1.74 | 0.000 | >5000k | Amorphous |
240 | 1.73 | 0.000 | >5000k | Amorphous |
400 | 1.73 | 0.000 | >5000k | Amorphous |
高温下においても、特性変化を起こしません。
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