平板显示器用溅射靶材
IGZO溅射靶材
特点
IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide,铟镓锌氧化物)是一种透明氧化物半导体,有望取代非晶硅作为新一代TFT的半导体材料。本公司采用通过ITO靶材培育出的粉末冶金烧结技术,开发出高密度的大型IGZO靶材,并向客户提供。我们还积极致力于溅射性能的改善。


用途
TFT用材料
技术内容与特性
纯度 | 4N |
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形状 | 无论圆筒型还是平板型,适用于所有溅射装置和所有尺寸。 |
组分 | 标准成分 In:Ga:Zn=1:1:1 (at.%) |
保持均一性的制造方法
将3种氧化物粉末在纯水中粉碎并混合,制备出亚微米级的均匀浆料,然后在热风中喷雾干燥,形成直径约为50µm的颗粒。此时,由于是瞬时干燥,因此可以得到3种氧化物均匀分散的颗粒。由于该颗粒是通过加压成型形成的靶形状,所以能够得到在面内和厚度方向上没有成分变化的靶材。

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