平板显示器用溅射靶材
IGZO溅射靶材
特点
IGZO（Indium-Gallium-Zinc-Oxide，铟镓锌氧化物）是一种透明氧化物半导体，有望取代非晶硅作为新一代TFT的半导体材料。本公司采用通过ITO靶材培育出的粉末冶金烧结技术，开发出高密度的大型IGZO靶材，并向客户提供。我们还积极致力于溅射性能的改善。
用途
TFT用材料
技术内容与特性
| 纯度 | 4N |
|---|---|
| 形状 | 无论圆筒型还是平板型，适用于所有溅射装置和所有尺寸。 |
| 组分 | 标准成分 In：Ga：Zn＝1：1：1 (at.％) |
保持均一性的制造方法
将3种氧化物粉末在纯水中粉碎并混合，制备出亚微米级的均匀浆料，然后在热风中喷雾干燥，形成直径约为50µm的颗粒。此时，由于是瞬时干燥，因此可以得到3种氧化物均匀分散的颗粒。由于该颗粒是通过加压成型形成的靶形状，所以能够得到在面内和厚度方向上没有成分变化的靶材。
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