ITO溅射靶材

特点

我们利用从原料开始的一条龙生产优势，使用电解法制作的氧化铟和氧化锡，生产和销售“UHD（Ultra High Density，超高密度）-IV级”的高密度／低异物产品。除了标准品10wt%浓度氧化锡产品外，我们还可提供低浓度的氧化锡产品，其可在低温下形成低电阻膜，是成膜的理想选择。即使是圆筒形状的靶材，也可以通过使用大靶块（筒）来做少分割产品来抑制异物。

用途

透明导电膜

技术内容与特性

纯度	4N
形状	无论圆筒型还是平板型，适用于所有溅射装置和尺寸。
组分	可对应以标准10wt%浓度氧化锡产品为中心的各类组分

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