高純度 MoO₂Cl₂（molybdenum dioxide dichloride）

モリブデン（Mo）は、微細・薄膜領域においてタングステン（W）よりも低抵抗な材料であり、半導体デバイスのさらなる微細化・高密度化に貢献する金属配線材料です。
加えて、MoO₂Cl₂はフッ素フリーの前駆体（プリカーサー）であるため、既存のWF6と比べてプロセスの信頼性向上が期待されており、さまざまな半導体デバイスでの採用が見込まれています。

配線材料として、3D NAND、DRAM、ロジックLSIなどの各種デバイスへの適用が期待されています。

• 3D NAND　ワードライン
• DRAM　ワードライン・ビットラインなど
• ロジック　配線・コンタクト・二次元材料など

• 5N(99.999%)品・6N(99.9999%)^※品の高純度製品をラインナップ。
• 追加の精製工程なしで半導体の要求品質を満たすため、トータルコストダウンに貢献。

• ※特許申請中（国際公開番号：WO2021171742）

• 高い嵩密度により、キャニスターへの充填量を増加させることができます。
• キャニスター交換頻度の低減や装置停止時間の削減など、運用面での経済性向上が期待できます。

• 低水分量により、水和物の発生を低減します。
  その結果、成膜時のキャニスター内の残渣量が低減でき、充填したMoO₂Cl₂をより有効に活用できます。

MoO₂Cl₂の写真

サプライチェーン

当社は原料メーカーとして、高純度MoO₂Cl₂原料を安定的に提供しています。